拟收购半导体公司!688072,下周一复牌!
2026-07-28 · 利好优配
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7 月 10 日晚间, 拓荆科技 ( 688072 ) 公告 ,公司拟通过发行股份及支付现金方式,向王世宽、夏小军等 34 名交易对方购买其持有的无锡尚积半导体科技股份有限公司 82.97% 股份、上海泰纳微企业管理有限公司 100% 股权和无锡宽行企业管理有限公司 100% 股权,并向不超过 35 名特定投资者发行股份募集配套资金。 本次交易完成后,上市公司将直接及间接持有无锡尚积 100% 股份。公司股票将于 7 月 13 日(下周一)开市起复牌。
预案显示,截至签署日,标的资产的审计、评估工作尚未完成,本次交易的最终交易价格尚未确定。 本次发行股份购买资产的发行价格为 383.57 元 / 股。 募集配套资金总额不超过发行股份购买资产交易价格的 100% ,且发行股份数量不超过本次募集配套资金股份发行前上市公司总股本的 30% 。
经初步测算,本次交易不构成重大资产重组、不构成关联交易、不构成重组上市。
从标的资产看,无锡尚积主要从事半导体薄膜沉积与刻蚀设备的研发、生产和销售, 主要产品包括 PVD (物理气相沉积)、 CVD (化学气相沉积)工艺薄膜沉积设备与刻蚀设备。目前,无锡尚积的产品和收入结构以 PVD 设备为主,其 PVD 设备产品在功率半导体、 MEMS 、射频芯片等细分领域具有国内领先地位;刻蚀领域目前聚焦干法刻蚀设备,主要应用于 MEMS 领域,并逐渐向功率器件、射频器件、先进封装等领域拓展; CVD 设备适用于射频、功率器件、先进封装等领域,目前处于产品研发和客户导入阶段。
上海泰纳微和无锡宽行均为持股平台,除分别持有无锡尚积 11.54% 和 5.49% 股份外无其他业务。上市公司收购上述两家持股平台 100% 股权的目的系为了间接取得其持有的无锡尚积股份。
拓荆科技表示,本次交易系我国本土核心半导体设备企业间的产业整合,契合国家集成电路产业发展战略及资本市场并购重组政策导向。 拓荆科技 深耕薄膜沉积设备行业多年,已形成 PECVD 、 ALD 和 Gap-Fill CVD 等核心品类;无锡尚积长期聚焦 PVD 设备研发创新,拥有成熟量产机型与核心工艺技术。通过本次交易,公司将快速补齐 PVD 产品线,完善对主流薄膜沉积工艺的覆盖。同时,标的公司的 PVD 设备和刻蚀设备亦可应用于三维集成领域的 RDL 、 TSV 、 TGV 等核心工艺环节,交易完成后上市公司将形成覆盖薄膜沉积、刻蚀、键合、检测的成套三维集成设备产品线。
从财务表现来看,拓荆科技正处于业绩高速增长期。 2025 年全年,公司实现营业收入 65.19 亿元,同比增长 58.87% ;归母净利润 9.27 亿元,同比增长 34.67% ;扣非净利润 7.23 亿元,同比增幅达 103.05% 。
2026 年一季度, 拓荆科技 业绩进一步提速。当季实现营业收入 11.12 亿元,同比增长 56.97% ;归母净利润 5.71 亿元,同比扭亏为盈。 该 公司表示,营收增长主要系加大市场开拓,各项主要业务均取得一定增长。
券商机构对半导体设备行业的中长期前景普遍持乐观态度 ,相关研报指出 ,围绕 AI 的应用落地和国产替代将是 2026 年科技投资的主线,半导体设备投资确定性明确。